晶片電阻率及擴(kuò)散層電阻測試方法
發(fā)布時(shí)間： 2023-08-18 20:44:49 點(diǎn)擊： 651
晶片電阻率及擴(kuò)散層電阻測試方法
測量單晶硅電阻率的方法如下：
選擇測試樣品：選擇具有代表性的單晶硅樣品。
測量樣品的直徑和厚度：使用卡尺等測量工具，測量樣品的直徑和厚度。
計(jì)算樣品的截面積：根據(jù)直徑和厚度，計(jì)算樣品的截面積。
測量樣品的電阻值：使用電阻測試儀測量樣品的電阻值。為了提高測試的準(zhǔn)確性，可以多次測量取平均值。
晶片的電阻率是表征晶體導(dǎo)電性能的參數(shù)，單位為歐姆·厘米。
不同的晶體材料具有不同的電阻率范圍，例如，用于光伏應(yīng)用的典型mc-Si晶片的電阻率范圍為0.015至0.028歐姆·厘米。而用于PV應(yīng)用的典型mc-Si晶片的電阻率范圍則為1.0至1.4歐姆·厘米。
計(jì)算樣品的電阻率：根據(jù)測量的電阻值和樣品的截面積，使用以下公式計(jì)算樣品的電阻率ρ：
ρ = ρ? * (L/S)
其中，ρ?為標(biāo)準(zhǔn)樣品的電阻率，L為樣品的長度，S為樣品的截面積。
對多個(gè)樣品進(jìn)行測試，以得到更準(zhǔn)確的結(jié)果。
另外，對于擴(kuò)散層電阻的測試，可以使用接觸或非接觸的方法進(jìn)行測試。具體方法需要根據(jù)具體應(yīng)用和測試條件選擇。
擴(kuò)散層電阻是一種重要的物理參數(shù)，用于描述半導(dǎo)體材料中雜質(zhì)擴(kuò)散工藝對材料電學(xué)性能的影響。擴(kuò)散層電阻的測量對于評估半導(dǎo)體材料和器件的性能以及工藝控制都具有重要意義。
一種測量擴(kuò)散層電阻的方法是利用擴(kuò)散工藝在硅片表面摻入三價(jià)或五價(jià)元素，改變硅片的電阻率所形成的電阻。例如，在n型襯底的硅片上注入硼離子，形成p型擴(kuò)散電阻。通過測量注入離子濃度、深*度和空間分布等參數(shù)，可以計(jì)算出擴(kuò)散層電阻。
另一種測量擴(kuò)散層電阻的方法是利用Hall效應(yīng)測試儀進(jìn)行測量。該方法需要在樣品上制作Hall電極，并在低溫下進(jìn)行測試。通過測量樣品的載流子濃度、遷移率和霍爾系數(shù)等參數(shù)，可以計(jì)算出擴(kuò)散層電阻。
總之，擴(kuò)散層電阻的測量對于半導(dǎo)體材料和器件的研究和開發(fā)都具有重要意義。擴(kuò)散層電阻的異常會(huì)導(dǎo)致器件性能的下降，因此對于半導(dǎo)體制造過程中的質(zhì)量控制也是至關(guān)重要的。
